Hydrochloric Acid Fume Scrubber มลพิษควบคุม H20 Wet Scrubbing System

ระบบบำบัดก๊าซเสีย การทำให้บริสุทธิ์ของเสียในโรงงานเคมี

หอสเปรย์

UV photolysis ออกซิเดชัน, อุปกรณ์ฟอกก๊าซไอเสียพลาสม่า

ผลิตภัณฑ์นี้ใช้ลำแสงพลังงานสูงพิเศษในการฉายรังสีก๊าซที่มีกลิ่นฉุน ทำให้เกิดการแตกของก๊าซที่เป็นอันตราย เช่น แอมโมเนีย ไตรเมทิลลามีน ไฮโดรเจนซัลไฟด์ เมทิลซัลไฟด์ เมทิลเมอร์แคปแทน เมทิลซัลไฟด์ ไดเมทิลไดซัลไฟด์ คาร์บอนไดซัลไฟด์และสไตรีน, H2S, VOC, โมเลกุล โครงสร้างลูกโซ่ของเบนซีน โทลูอีน และไซลีน ทำให้สายโซ่โมเลกุลของสารประกอบที่เป็นอันตรายโมเลกุลสูงแบบอินทรีย์หรืออนินทรีย์เสื่อมสภาพและเปลี่ยนเป็นสารประกอบโมเลกุลต่ำ เช่น CO2, H20 เป็นต้น การใช้รังสีอัลตราไวโอเลตที่ให้พลังงานสูงและโอโซนสูง ลำแสงอัลตราไวโอเลตสลายโมเลกุลออกซิเจนในอากาศเพื่อผลิตออกซิเจนอิสระ กล่าวคือ ออกซิเจนที่ใช้งานเนื่องจากออกซิเจนอิสระทำให้เกิดความไม่สมดุลของอิเล็กตรอนบวกและลบ จึงจำเป็นต้องรวมกับโมเลกุลของออกซิเจนเพื่อสร้างโอโซนUV+O2-0-+O* (ออกซิเจนที่ใช้งาน) O+02-O3 (โอโซน) โอโซนมีผลในการออกซิไดซ์อย่างแรงต่ออินทรียวัตถุ และมีผลในการกำจัดก๊าซที่มีกลิ่นไม่พึงประสงค์และกลิ่นที่ระคายเคืองอื่นๆ

1. อุตสาหกรรมเทศบาล: ใช้ได้กับสถานีบำบัดน้ำเสียในครัว สถานีขนถ่ายของเสีย โรงบำบัดของเสียในเมือง โรงบำบัดน้ำเสีย โรงบำบัดน้ำเสียในเมือง สถานีสูบน้ำทิ้ง สระกากตะกอนระหว่างกริด ห้องบำบัดตะกอน ฯลฯ H2S mercaptan ซัลไฟด์ , แอมโมเนียและเอมีน และก๊าซที่เป็นอันตรายอื่นๆ